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UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺 SELFA-MP

DATE：2018-12-03【BIG MID SMALL】 TOP： 积水化学公司版权所有

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UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺 SELFA-MP

SELFA-MP

电镀工程中的背面保护用的胶带，UV照射后产生GAS，可以从接着体上剥离开来。

特長

UV照射后粘着剂自行产出氮气使粘力下降，可在晶圆不受外力的情况下实现自行剥离。

用途

■晶圆化学镀UBM时的背面保护膜、防止晶圆在剥离中受损

UBMめっき工程時のウェハ裏面保護の図

用途例

镀UBM的工艺适用
前处理(alkali碱溶液，PH9）
后处理（强酸，强碱）
镀金属处理（Ni，Au等）

特性

一般物性

项目		单位
胶带厚度	基材	25μm
胶带厚度	粘着剂	30μm

项目		单位	SUS	Si Wafer	金
粘着力	初期	N/25mm	15.5	14.1	10.5
粘着力	UV照射后	N/25mm	0	0	0

※粘合力：180度剥离　　UV照射：1000MJ

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