控制UV平行曝光的散乱，提高30μm以下精细图形的再现性。
以往，如果在底片上粘贴保护膜，难以形成50μm以下的窄幅图形。TACKWELL＃155FP通过UV区域的高透明化和大幅减少卷入气泡，可控制曝光光的散乱，易于形成精细图形。
不仅限于膜掩膜，还可用于玻璃掩膜。
与以前的液状和涂层型不同，仅通过层压便可粘合，便于操作。
项目
单位
本公司现有产品
总厚度
um
20
10
全光线透过率
%
91.6
93.6
400nm光线透过率
85.1
81.8
HAZE(雾度)
1.2
7.3
散乱率
1.0
6.8
用途
高密度封装基板
通用印刷电路板
* 记载的数值为测量值，非保证值。
物理特性对比 
